CVD-technologie: de hoeksteen van onderzoek en ontwikkeling en productie van nieuwe materialen

Introductie

Van het laboratorium tot de massaproductielijn, CVD-apparatuur dient als het kernplatform voor de fabricage van nieuwe materialen. Van chips in smartphones tot vermogenselektronica in nieuwe energievoertuigen, en van fotovoltaïsche cellen tot optische coatings, al deze producten zijn afhankelijk van dezelfde technologie – chemische dampdepositie (CVD). Dit proces is verantwoordelijk voor het groeien van functionele dunne films op atomair niveau en is het sleutelproces dat de overgang van nieuwe materialen van het laboratorium naar massaproductie mogelijk maakt.

01 Wat is CVD-technologie?

CVD-technologie is een proces waarbij gasvormige precursors in een reactiekamer worden geïntroduceerd, waar ze chemische reacties ondergaan bij contact met het verwarmde substraatoppervlak om een vaste film of coating te deponeren. In tegenstelling tot traditionele coatingmethoden, verloopt het filmvormingsproces in CVD atoom voor atoom, wat een nauwkeurige controle over de samenstelling, dikte en structuur van de film mogelijk maakt. Het is niet hetzelfde als fysieke dampdepositie (PVD): PVD maakt gebruik van fysieke middelen om materiaal over te brengen, terwijl CVD gebruik maakt van chemische reacties om materiaal te genereren.

CVD-productielijnen voor dunne-filmdepositie voor halfgeleiderwafers zijn een uitstekend voorbeeld van de grootschalige toepassing van CVD.

02 Waarom is CVD cruciaal voor het onderzoek, de ontwikkeling en de productie van nieuwe materialen?

1. Hoge precisie

Precisie op atomair niveau. CVD kan films deponeren met een dikte van slechts enkele nanometers, wat voldoet aan de strenge eisen voor uniformiteit van de filmdikte in halfgeleiderapparaten.

2. Hoge zuiverheid

Ultra-hoge zuiverheid. Neem bijvoorbeeld precursors van elektronische kwaliteit: de zuiverheid moet de 99,9999% bereiken, en de controle op onzuiverheden bepaalt direct de opbrengst van de wafer.

3. Grootschalige productie

Grootschalige productie is haalbaar. Geavanceerde materialen zoals grafeen, diamantfilms, siliciumcarbide en galliumnitride zijn allemaal afhankelijk van CVD als hun primaire fabricageroute. Van 2-inch laboratoriumsamples tot 12-inch massaproductiewafers, CVD beschikt over de technische capaciteit om de kloof tussen R&D en massaproductie te overbruggen. Om deze reden wordt CVD veel gebruikt in sectoren zoals geïntegreerde schakelingen, TFT-LCD-schermen, fotovoltaïsche cellen, LED's en geavanceerde coatings, waardoor het een infrastructuurtechnologie is voor de industrialisatie van nieuwe materialen.

03 Het CVD-proces is afhankelijk van een speciaal gassysteem

                                                               Shenzhen Wofly Technology Special Gas System Engineering

De reactanten die in CVD worden gebruikt, zijn speciale gassen, zoals silaan (SiH₄), ammoniak (NH₃), lachgas (N₂O) en hexafluoroethaan (C₂F₆). De zuiverheid van de gassen, de stabiliteit van hun debieten en de drukregeling bepalen direct de kwaliteit van de gedeponeerde film en de productieveiligheid. Een compleet speciaal gassysteem bestaat uit een speciale gaskast (GC), hoogzuivere leidingen, kleppen en fittingen, lekdetectie en afvalgasbehandeling (scrubber): Na drukregeling en vergrendeling binnen de speciale gaskast worden gassen uit cilinders via hoogzuivere leidingen naar de procesapparatuur geleid; reactieafvalgassen worden vervolgens behandeld door de scrubber en afgevoerd in overeenstemming met de geldende normen. Aangezien gassen zoals silaan brandbaar en explosief zijn, moet het systeem zijn uitgerust met lekdetectoren, noodafsluiters en geïntegreerde ventilatiemogelijkheden.

Speciale Gaskast (GC)

Shenzhen Wofly Technology Special Gas Cabinet Products

Kleppen en Fittingen / Hoogzuivere Leidingen

Shenzhen Wofly Technology VMB Valve Assembly Piping

Afvalgasbehandeling (Scrubber)

Shenzhen Wofly Technology Exhaust Treatment Equipment

Wofly Technology

Het leveren van engineeringdiensten voor speciale gassystemen voor de CVD-industrie

De volautomatische speciale gaskast (GC) van Wofly Technology is ontworpen voor de veilige en stabiele levering van speciale gassen met een hoge zuiverheid.

Opgericht in 2011, is Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. een nationaal high-tech bedrijf en een "Little Giant"-onderneming erkend onder het Specialized, Refined, Distinctive, and Innovative programma. Het bedrijf beschikt over een nationale professionele aannemerskwalificatie voor de installatie van mechanische en elektrische installaties in gebouwen en is gespecialiseerd in engineering van gassystemen. Wofly Technology biedt end-to-end diensten voor de CVD-gerelateerde industrie, variërend van technisch advies, algehele planning, systeemontwerp, apparatuurselectie en geprefabriceerde componenten tot installatie ter plaatse en systeemtesten. Het bedrijfsondernemingsgebied omvat elektronische speciale gaskleidingsystemen, laboratoriumgasvoorzieningssystemen, gecentraliseerde gasvoorzieningssystemen, bulk gassystemen, secundaire leidingen voor hoogzuivere gassen en speciale procesgassen, evenals chemische transfer- en zuiverwatersystemen.

Shenzhen Wofly Technology Special Gas System Engineering

De onafhankelijk ontwikkelde volautomatische speciale gaskast (GC) van Wofly Technology heeft een PLC als besturingskern en is uitgerust met veiligheidsvergrendelingen, lekdetectoren en automatische afsluitfuncties; het Scrubber-afvalgasbehandelingssysteem zorgt voor de conforme afvoer van procesafvalgassen; en de Aofei Ke AFK® en Afklok® merk kleppen en fittingen van het bedrijf voldoen aan de eisen voor het transporteren van media met een hoge zuiverheid. De oplossingen van Wofly Technology zijn ingezet in sectoren zoals halfgeleiders, TFT-LCD, fotovoltaïsche cellen, biofarmaceutica en onderzoeksinstellingen. Het Scrubber-afvalgasbehandelingssysteem biedt de laatste waarborg voor milieunaleving in CVD-processen.