Samenvatting
De 7e Vacuum Technology Exchange Conference, met als centraal thema “Innovatie in vacuümcoating en oppervlakte-engineeringtechnologieën,” is vandaag officieel van start gegaan in Shenzhen.
Geleid door het kernprincipe van “Het doorbreken van technische barrières en het bevorderen van industriële synergie,” bevat deze conferentie uitwisselingssessies gericht op drie belangrijke onderwerpen: Atomic Layer Deposition (ALD), Chemical Vapor Deposition (CVD) en DLC/Ta-C koolstofgebaseerde coatings.
De conferentie brengt internationale experts uit de academische wereld, de industrie en onderzoeksinstituten samen met technische leiders van toonaangevende bedrijven en zal zich verdiepen in de nieuwste doorbraken in sleuteltechnologieën, paden voor industriële implementatie en de belangrijkste uitdagingen in de industrie. Het doel is om een geïntegreerd platform op te zetten voor “technische uitwisseling, resource matching en transformatie van prestaties,” waarmee vacuümtechnologie in staat wordt gesteld om diepe integratie en wijdverspreide toepassing te bereiken in kritieke sectoren zoals halfgeleiders, nieuwe energie en geavanceerde materialen.
1. ALD/CVD “Precisiecontrole” lost de puzzel op
Het selecteren van kleppen voor ALD/CVD-systemen vereist niet alleen het voldoen aan fundamentele specificaties, maar ook het afstemmen op procesdetails. Het bereiken van een doorbraak van “acceptabel naar premium” in vacuümcoating en oppervlakte-engineering hangt af van “micron-niveau precisiecontrole” in ALD/CVD-processen—waarbij de reactiesnelheid van de klep en de stabiliteit van het speciale gassysteem direct de uniformiteit, zuiverheid en opbrengst van de coating bepalen.
ALD: “Pulscontrole” en “Nul lekkage”
In vacuümcoatingprocessen is de prestatie van vloeistofbesturingsapparatuur cruciaal. Onze producten blinken uit in reactiesnelheid, leksnelheid en temperatuurbestendigheid. Apparatuur met een 316L EP-grade roestvrijstalen kleplichaam met PTFE-afdichtingen bereikt een leksnelheid van ≤1×10⁻¹² Pa·m³/s, wat voldoet aan de ALD-procesvereisten. Onze multi-orifice kleppen, ontworpen voor hogetemperatuur ALD-coatingtoepassingen, zijn bestand tegen verhoogde temperaturen en optimaliseren tegelijkertijd de spoel-efficiëntie om de effecten van restprecursors op de coatingkwaliteit te minimaliseren.
CVD: “Corrosiebestendigheid” en “Flowstabiliteit”
Onze kleplichamen zijn geconstrueerd uit corrosiebestendige klepconstructies die meer dan 25% chroom-nikkel-molybdeenlegering bevatten. Het CVD-proces zorgt voor continue, langdurige werking zonder corrosie of lekkage. Met betrekking tot flowcontrole handhaaft het multi-klep interlocking controlesysteem een flowafwijking binnen ±0,2%, wat aanzienlijk beter is dan de industriegemiddelde precisienorm van ±0,3%. Dit lost effectief de uitdaging in de industrie op van “flowfluctuaties die afwijkingen in de coatingdikte veroorzaken.”
Speciale gasleidingen “Drie eigenschappen”
De “schoonheid, stabiliteit en traceerbaarheid” van speciale gasleidingen dienen als de onzichtbare bescherming voor vacuümcoatingprocessen.
Pijpleiding schoonheid
De reinheid van de binnenwanden van de pijpleiding moet strikt worden gecontroleerd. Daartoe hebben we een uitgebreid schoonheidsbeheersysteem opgezet dat “reiniging, lassen, spoelen en inspectie” omvat. Door een proces te gebruiken dat “ultrasoon reinigen + hoogzuiver stikstof spoelen + passivering” combineert, bereikt de Ra-waarde van de binnenwanden van de pijpleiding consequent 0,35μm.
Nauwkeurige matching op basis van drukclassificatie
De pijpleidingdruk varieert aanzienlijk in verschillende vacuümcoatingscenario's (ALD varieert doorgaans van 10⁻³ tot 10⁻⁵ Pa, terwijl CVD doorgaans werkt bij 0,1 tot 0,5 MPa), wat verbindingsmethoden vereist die compatibel zijn met de drukclassificatie.
· Lage druk (≤0,3 MPa): Dubbele ferrule-verbindingen
· Hoge druk (≥0,5 MPa): Automatisch TIG-lassen
· Ultrahoog vacuüm (≤1e-4 Pa): Metaal-afgedichte flenzen
Drukdynamisch evenwicht
De pulsgastoevoer in het ALD-proces veroorzaakt drukschommelingen in de pijpleiding. Als de schommelingen ±0,02 MPa overschrijden, wordt de stabiliteit van de precursorconcentratie aangetast. Door de drukregelaar stroomopwaarts aan te passen, hebben we de inlaatdrukschommelingen geregeld op ±0,005 MPa. In combinatie met real-time feedbackregeling van een hogeprecisie druksensor met ±0,1% FS-nauwkeurigheid, hebben we uiteindelijk drukschommelingen in de pijpleiding van ≤±0,003 MPa bereikt, waardoor een consistente ALD-pulsstraalconcentratie wordt gewaarborgd.
Kernupgrade-richtingen voor speciale gasapparatuur
Speciale gasapparatuur moet overgaan van “geïsoleerde werking” naar “diepe integratie met het proces.”
Gasmixapparatuur: Precisie mengen van meerdere componenten
CVD-processen vereisen doorgaans 2-4 gassen die in vaste verhoudingen worden gemengd. Daarom gebruiken we internationaal toonaangevende hogeprecisie mass flow controllers (MFC's) met een meetnauwkeurigheid van ±0,05% FS, wat uitzonderlijke stabiliteit en betrouwbaarheid in de vloeistofstroomregeling garandeert. Uitgerust met ons eigen mengalgoritme bewaken en compenseren deze controllers continu de effecten van gastemperatuur- en drukschommelingen op stroomparameters.
Uitlaatgasbehandelingsapparatuur: Voldoet aan zowel milieu- als veiligheidsnormen
Het uitlaatgas dat door het CVD-proces wordt gegenereerd, moet voldoen aan de emissienormen. We gebruiken een geïntegreerd uitlaatgasbehandelingssysteem.
Droge adsorptiefase: Uitgerust met zeer selectieve gespecialiseerde adsorbents, bereikt dit meerfasen adsorptiesysteem een ultrahoog adsorptierendement van ≥99,9%. Verbrandingsfase: Voor complexe, moeilijk afbreekbare organische verbindingen wordt een hogetemperatuur pyrolyseomgeving gecreëerd. In combinatie met turbulente verbrandingsverbeteringstechnologie wordt een diepe ontbindingssnelheid van ≥99,99% bereikt, waardoor het risico op organische verontreinigingen volledig wordt geëlimineerd.
Geïntegreerd “Speciaal gaskabinet + pijpleiding + apparatuur” systeem
Om interfacepunten te minimaliseren en lekkagerisico's te verminderen, bieden we een geïntegreerde oplossing. Van het ontwerp van het speciale gaskabinet (inclusief zuivering, distributie en veiligheidscontroles) tot pijpleidinglassen en integratie van uitlaatgasbehandelingsapparatuur, het hele proces wordt professioneel uitgevoerd door één team.
De vereniging gebruiken als brug om de industrietechnologie te bevorderen
Deze conferentie over “Innovatie in vacuümcoating en oppervlakte-engineeringtechnologie” dient niet alleen als een platform voor technologische uitwisseling in de hele industrie, maar is ook een voorbeeld van Wofei Technology's toewijding aan het verdiepen van industriële connecties en het bevorderen van “technologie-gestuurde productie.”
Vooruitkijkend zullen we de Vacuum Technology Industry Association blijven gebruiken als brug, met de focus op vloeistofbesturingsvereisten voor kernprocessen zoals ALD/CVD. We streven ernaar de implementatie van meer technologische innovaties te stimuleren, waardoor vacuümcoating en oppervlakte-engineeringtechnologie naar een nieuw tijdperk van hogere precisie en verbeterde veiligheid worden gestuwd!
