De halfgeleiderindustrie is de reusachtige globale industrie, die elk jaar blijft kweken, zo het bedoelt dat de vraag naar high-purity gassen dienovereenkomstig zal stijgen.
Hebben van een betrouwbare levering van high-purity gas is essentieel voor halfgeleider productie, vooral in geavanceerde technologieën zoals smartphones en autonoom voertuig.
Het proces om geïntegreerde schakelingen te produceren is zeer complex, vereisend meer dan 30 verschillende gassen in alle stadia, wat de waaier van gassen gebruikte één van het wijdst gebruikt in om het even welke industrie maakt.
Het gas is een belangrijk stuk van halfgeleider productie, omdat het chemische die reacties kan veroorzaken worden vereist om de elektrokenmerken van halfgeleiders gestalte te geven. wegens zijn die ingewikkeldheid, wordt gebruikt moet het gas in elk stadium van het productieproces nauwkeurig en nauwkeurig zijn de halfgeleider correct om te vormen.
Met de ononderbroken die ontwikkeling van de halfgeleiderindustrie, zich ook ontwikkelen de gassen in het proces worden gebruikt. Enkele gebruikte kerngassen omvatten stikstof, zuurstof, argon en waterstof. Wij zullen hun rollen in het productie diepgaand proces bespreken.
Stikstof
wegens zijn die beschikbaarheid en traagheid, stikstof is het kerngas in elke stap van het halfgeleider productieproces wordt gebruikt, maar zijn hoofdgebruik is in het zuiverende stadium. In dit stadium, wordt de stikstof gebruikt om elk kanaal en pijpnetwerk te spoelen om eender welke zuurstof in de machines en de hulpmiddelen te verwijderen, om hen tegen andere gassen te beschermen die het proces kunnen vervuilen.
Bovendien zijn de meeste halfgeleiderfabrieken uitgerust met stikstofgenerators op plaats toe te schrijven aan het grote gebruik van stikstof in het gehele proces. Wat nog belangrijker is, met de productie van high-tech smartphones en andere technologieën, is het noodzakelijk om de kosten laag te houden terwijl het proberen om de hoge vraag te ontmoeten.
U kunt zeggen dat de stikstof hulpmiddelen, ruimten en pijpen vanaf om het even welke potentiële vochtigheid, chemische verontreinigende stoffen en deeltjes houdt. Het is een essentieel gas, dat door het proces van bij het begin aan het eind wordt gebruikt, dat geen wonder is waarom zij generators op plaats installeren.
Zuurstof
Zoals u het weet, is de zuurstof een oxidatiemiddel, zodat is het essentieel om een depositoreactie te veroorzaken. Het wordt gebruikt om de lagen van het siliciumoxyde voor diverse elementen in het proces, zoals verspreidingsmaskers te kweken.
Wanneer de zuurstof voor halfgeleider productie wordt gebruikt, moet het gas ultrahoge zuiverheid zijn om eender welke onzuiverheid te verhinderen de productie en de prestaties van het apparaat te beïnvloeden.
Tijdens het etsproces, wordt de zuurstof ook gebruikt om eender welk extra materieel geproduceerd afval te verwijderen. Het kan ook worden gebruikt om eender welk etspatroon permanent te maken.
Tot slot helpt de zuurstof ook om reactieve gassen door oxydatiereacties te neutraliseren die productkwaliteit kunnen veranderen. Daarom als stikstof, helpt de zuurstof ook om ervoor te zorgen dat geen verontreiniging voorkomt.
Argon
Het argon wordt hoofdzakelijk gebruikt voor het deposito en etsproces in de ultraviolette lithografielaser, en gebruikt om het kleinste patroon op de halfgeleiderspaander te maken.
Tijdens de productie van het vereiste siliciumwafeltje, wordt het argongas gebruikt die het siliciumkristal op het wafeltje wordt gevormd tegen om het even welke potentiële reactie te beschermen met zuurstof en stikstof tijdens het de groeiproces op hoge temperatuur.
Omdat het argon ook een zeer inert gas is, wordt het gebruikt om een niet reactief milieu voor metaal het sputteren deposito te verstrekken. Soms is de reactiviteit van stikstof te sterk, wat zal leiden tot de vorming van metaalnitriden.
Bovendien wordt het vloeibare argon gebruikt met hulpmiddelen om de kleinste en breekbaarste spaanders schoon te maken.
Waterstof
Het gebruik van waterstof in halfgeleider productie kan wegens de hogere vraag verhogen. Vooral in het fotolithografiestadium, wordt de waterstof gebruikt om met chemisch tin aan het hydride van het opbrengstin te reageren. Het tinhydride wordt vereist zo zo niet om op dure optische elementen te accumuleren.
Het wordt gebruikt voor epitaxial deposito van silicium en siliciumgermanium in het depositoproces, en ook voor oppervlaktevoorbereiding door onthardend proces.
De waterstof wordt gebruikt om tot een nieuwe oxydelaag te leiden om de bestaande dunne film te wijzigen. Dit proces komt in hoge druk voor en de milieu's op hoge temperatuur, het betekent zo dat de controle van stroomtarief, temperatuur en druk zeer belangrijk is.
Bovendien wordt de waterstof ook gebruikt in het het smeren stadium die controledecompositie te helpen, omdat het gas in dit proces wordt gebruikt hoogst giftig is. Zo velen die zij in een apparaat moeten worden opgeslagen dat lekkage kan verhinderen.
Diborane is ook een chemisch product in het het smeren proces wordt gebruikt, maar wegens thermische instabiliteit, zal het langzaam ontbinden, zodat is de waterstof die nodig helpen het stabiliseren.
Halfgeleiders in het dagelijkse leven
De halfgeleiders worden gebruikt in allerlei dagelijks materiaal, zoals computers, smartphones, televisies, en ook in geavanceerde technologieën, zoals medische apparatuur, militaire systemen en veel andere toepassingen.
Zij maken deel uit van ons dagelijks leven en wij merken hen niet op omdat zij in de apparaten bestaan wij elke dag gebruiken. Zonder halfgeleiders, zullen wij niet vele dingen kunnen doen. Met de ontwikkeling van halfgeleidertechnologie, zullen zij betrouwbaarder, intelligent en compact worden.
Van mededeling, vervoer en vermaak, zijn dit slechts een stuk van wat de halfgeleiders voor ons hebben gedaan. Zij zullen toekomstige technologie en innovatie aandrijven, toelatend ons om dingen te doen die wij nooit hebben verondersteld.