CHINA Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Bedrijfsnieuws

Het de behandelingsmateriaal van het staartgas kan gassen behandelen in etsprocessen en de processen van het chemische dampdeposito in de halfgeleider, het vloeibare kristal, en de zonne-energieindustrieën worden gebruikt, met inbegrip van SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, Co, NF3, SF6, C2F6, WF6 die, NH3, N2O, etc. De methode van de uitlaatgasbehandeling Volgens de kenmerken van uitlaatgasbehandeling, kan de behandeling in vier soorten behandeling worden verdeeld: 1. Het type van waterwas (behandeling van corrosieve gassen) 2. Oxyderend type (behandelend brandbare en giftige gassen) 3. Adsorptie (volgens het type van adsorptiemateriaal om het overeenkomstige uitlaatgas te behandelen). 4.Plasma verbrandingstype (allerlei uitlaatgassen kunnen worden behandeld). Elk type van behandeling heeft zijn eigen voordelen en nadelen evenals zijn toepassingsgebied. Wanneer de behandelingsmethode waterwas is, is het materiaal goedkoop en eenvoudig, en kan in water oplosbare gassen slechts behandelen; de toepassingswaaier van het elektrische type van waterwas is hoger dan dat van het type van waterwas, maar de verrichtingskosten zijn hoog; het droge type heeft goede behandelingsefficiency, en is niet van toepassing aan de gasstroom die gemakkelijk om is worden belemmerd of stroomde. Chemische producten en hun die bijproducten algemeen in de halfgeleiderindustrie kunnen worden de gebruikt volgens hun chemische eigenschappen en hun verschillend gamma worden gecategoriseerd: 1. Brandbare gassen zoals SiH4H2, enz. 2. Giftige gassen zoals AsH3, PH3, enz. 3. Corrosieve gassen zoals HF, HCl, enz. 4. Broeikasgassen zoals CF4, NF3, enz. Aangezien de bovengenoemde vier gassen voor het milieu of het menselijke lichaam schadelijk zijn, moet zijn directe emissie in de atmosfeer verhinderen, zodat is de algemene halfgeleiderinstallatie geïnstalleerd met een groot gecentraliseerd systeem van de uitlaatgasbehandeling, maar dit systeem is slechts water het schrobben uitlaat, zodat is zijn toepassing beperkt tot de in water oplosbare gassen over lange afstand, en kan niet de continu veranderende en subtiele afdeling van het uitlaatgas van het halfgeleiderproces behandelen. Daarom is het noodzakelijk om het overeenkomstige die materiaal van de uitlaatgasbehandeling volgens de gaskenmerken te selecteren en aan te passen uit elk proces worden afgeleid het uitlaatgasprobleem op een kleine manier op te lossen. Aangezien de werkplaats meestal vanaf het centrale systeem van de uitlaatgasbehandeling is, vaak wegens gas leiden de kenmerken tot kristallisatie of stofaccumulatie in de pijpleiding, resulterend in het belemmeren van de pijpleiding die tot gaslekkage leiden, en in ernstige gevallen, veroorzaak zelfs een explosie, kan niet ervoor zorgen dat de het werkveiligheid van het plaatspersoneel. Daarom in de behoefte van het het werkgebied om een klein materiaal te vormen van de uitlaatgasbehandeling geschikt voor de kenmerken van het procesgas om het stagnerende uitlaatgas in het het werkgebied te verminderen, om de veiligheid van personeel te verzekeren.

Er is een grote die verscheidenheid van gassen binnen een farmaceutisch of medisch laboratorium wordt gevonden. Velen hebben geen smaak, kleur of geur, die het moeilijk maken te vertellen als een gaslek aanwezig is. Een gaslek van een cilinder of een vast systeem van het pijpgas stelt een reeksrisico dat een potentieel fataal incident of een gevaar binnen een laboratoriummilieu kan veroorzaken.   De farmaceutische industrie is één van de snelste wereld - de groeiende industrieën. Het grootste deel van de verkoopopbrengst het produceert wordt dan opnieuw geïnvesteerd op het gebied van onderzoek en ontwikkeling van nieuwe producten. Het onderzoek en de ontwikkeling gebruiken een brede waaier van specialiteitengassen en materiaal. De analitische instrumenten zoals gaschromatografen, vloeibare chromatografen en spectrometers allen baseren zich op het passende niveau van gaslevering om effectief te werken.   Deze farmaceutische en medische gassen worden vervaardigd specifiek voor de medische, farmaceutische productie, en de biotechnologieindustrieën. Zij worden vaak gebruikt om, processen of producten samen te stellen te steriliseren of te isoleren die tot menselijke gezondheden bijdragen.   De farmaceutische die gassen worden ook door patiënten in een techniek geïnhaleerd als gastherapie wordt bekend. De gassen voor menselijke gezondheidszorg worden gebruikt worden strikt gecontroleerd door zowel de wetgeving als industriële normen om menselijke fysiologie niet te schaden die.   Gassen binnen een laboratorium worden gevonden dat Helium Het helium (hij) is een zeer licht, geurloos en smaakloos gas. Het is ook één van de 6 edele gassen (zogenaamd helium, neon, argon, krypton, xenon en radon), omdat zij niet met andere elementen reageren en daarom niet met andere atomen kunnen plakken om complexe samenstellingen te vormen. Dit geeft het een sterk veiligheidsprofiel en een potentieel gebruik in veelvoudige toepassingen. wegens hun unreactive status wordt het Helium vaak gebruikt als draaggas in laboratoria. Het helium heeft veel gebruik voorbij zijn gemeenschappelijkste om ballons te vullen en zijn rol binnen de geneesmiddel en biotechnologiesector is onschatbaar. Het wordt het wijdst gebruikt in het laboratorium in het koelen van magneten binnen MRI-machines nochtans wordt het ook gebruikt over een grote waaier van medische gebieden met inbegrip van ademhalings, cardiologie, radiologie en cryologyfuncties.   Argon Het argon (AR) is ook een edel gas met niet reactieve eigenschappen. Naast zijn bekend gebruik in neonlichten wordt het ook soms gebruikt in de medische en biotechnologiesectoren. Het is het aangewezen inerte gas voor gebruik binnen Schlenk-lijnen en de handschoendozen in gevallen waarbij de stikstof met reagentia of apparaten kan reageren en ook gebruik kan zijn is het draaggas in gaschromatografie en electrospray massaspectrometrie. In geneesmiddelen en geneeskunde die kan het ook in de verpakking van worden gebruikt waar de stikstof kan strijdig zijn en ook in cryosurgery en in lasers voor vasculaire het lassen en het verbeteren oogtekorten worden gebruikt.   Stikstof Hoewel niet een edel gas zoals Helium of Argonstikstof (n) ook algemeen in de farmaceutische industrie toe te schrijven aan is vrij niet reactieve eigenschappen in vele verschillende processen en toepassingen wordt gebruikt. Laboratoria hoofdzakelijk om de atmosfeer voor hoogst gevoelig materiaal en procedures te controleren. Het stikstofgas wordt toegepast om zuurstofniveaus, vochtigheid, en temperatuur in laboratoriummateriaal met inbegrip van celincubators, droge dozen, handschoendozen, en massaspectrometers te controleren.

1. Welke gassen geschikt de drukregelaar van het videogas is voor? De drukregelaars van het videogas zijn geschikt voor gevaarlijke en ultrahoge zuiverheidsgassen.   2. Wat zijn de gevaarlijke gassen waarvoor de drukregelaar van het videogas geschikt is? De gemeenschappelijke gevaarlijke gassen en de verwante informatie zijn: Ammoniak (NH3): De ammoniak is een gemeenschappelijk die chemisch product wijd in landbouwmeststoffen, koelmiddelen, schoonmakende agenten en industriële processen wordt gebruikt. Chloor (Cl2): De chloor is een algemeen gebruikt chemisch product voor desinfectie, bleken, waterbehandeling en de vervaardiging van andere chemische producten. Kooldioxide (Co2): De kooldioxide is een gemeenschappelijk die gas als carbonaterende agent in de voedsel en drankindustrie, evenals in lassen, brandbestrijding en andere industriële toepassingen wordt gebruikt. Waterstofcyanide (HCN): Het waterstofcyanide is een hoogst giftig die gas in metallurgie, organische synthese en pesticide productie wordt gebruikt. Waterstofsulfide (H2S): Het waterstofsulfide is een hoogst niet lekker ruikend en giftig die gas algemeen in de olie en gasindustrie en andere industriële processen wordt gebruikt. Waterstofchloride (HCl): Het waterstofchloride is een gas met een irriterende geur en in de vervaardiging van chemische producten, schoonmakende metalen, en regelende pH niveaus algemeen gebruikt. Stikstof (N2): De stikstof is een inert die gas algemeen wordt gebruikt om te beschermen en inerte reactiemilieu's, evenals voor gasinsluiting en druk het testen. Zuurstof (O2): De zuurstof is een essentieel die gas algemeen in de medische de industrie, van het gasknipsel, van het lassen en van de verbranding processen wordt gebruikt.   3. Kenmerken van de drukregelaar van het videogas? HOGE NAUWKEURIGHEIDSregelgeving: De Drukregelaar van het videogas gebruikt een nauwkeurig regelgeving mechanisme dat hoogst nauwkeurige gasdrukregelgeving verstrekt. Dit maakt het in toepassingen nuttig waar de nauwkeurige controle van gasstroom en druk, zoals in laboratoriumonderzoek, precisie productie en gasanalyse wordt vereist. Betrouwbaarheid en Stabiliteit: Ontworpen voor stabiele gasregelgeving op lange termijn, kunnen de drukregelaars van het videogas betrouwbare prestaties onder variërende exploitatievoorwaarden verstrekken. Zij worden typisch geconstrueerd gebruikend hoogte - kwaliteitsmaterialen en vakmanschap om betrouwbare verrichting over lange perioden te verzekeren en het risico van lekkage en mislukking te minimaliseren. Veelvoudige Verbindingsopties: De drukregelaars van het videogas zijn typisch beschikbaar met een verscheidenheid van verbindingsopties om verschillende gas het door buizen leiden en systeemvereisten aan te passen. De gemeenschappelijke verbindingsopties omvatten video metaal-verzegelde montage, van een flens voorzien verbindingen, en ingepaste verbindingen, die de installatie en de integratie van de flexibel en gemakkelijke regelgever maken. Brede waaier van adjustability: De drukregelaars van het videogas hebben typisch een brede waaier van adjustability om verschillende drukvereisten aan te passen. Hetzij wordt de hoge of lage drukregelgeving vereist, verstrekken zij de passende oplossing. Veiligheidseigenschappen: De drukregelaars van het videogas zijn vaak uitgerust met een verscheidenheid van veiligheidseigenschappen om de veilige exploitatie van het systeem te verzekeren. Deze eigenschappen kunnen overdrukbescherming, te sterke intensiteitbescherming, over--temperatuurbescherming en lekopsporing omvatten om het risico van potentiële gevaren en ongevallen te minimaliseren. Adjustability: De drukregelaars van het videogas zijn typisch regelbaar, toestaand de gebruiker om de druk te plaatsen en aan te passen aan specifieke behoeften. Dit adjustability maakt de regelgever voor verschillende toepassingsscenario's en procesvereisten geschikt.   4. Het milieu waarin de drukregelaar van het videogas wordt geassembleerd? De drukregelaars van het videogas worden geassembleerd in schone ruimten om netheid te verzekeren en te helpen de integriteit en de prestaties van de drukregelaar van het videogas handhaven.   5. Hoe het de Drukregelaarswerk van het videogas? Gasinham aan Regelgever: Het gas gaat de drukregelaar van het videogas door een verbindingslijn in. De inham wordt gewoonlijk verbonden met een gasbron. Druk die ontdekken: Binnen de regelgever is er een druk ontdekkend element, gewoonlijk de lente of een diafragma. Aangezien het gas de regelgever ingaat, wordt het druk ontdekkende element onderworpen aan de gasdruk en produceert een overeenkomstige kracht. Het in evenwicht brengen van Krachten: De kracht van het druk ontdekkende element is evenwichtig tegen een regelend mechanisme binnen de regelgever. Dit mechanisme bestaat gewoonlijk uit een regelende klep en een spoel. Regelende Klepverrichting: Afhankelijk van de kracht van het druk ontdekkende element, zal de regelende klep sluiten openen of zal om dienovereenkomstig de druk van het gas aan te passen die door het systeem vloeien. Wanneer de kracht van het druk ontdekkende element stijgt, het regelende klepsluiten die, die de gasstroom verminderen en zo de systeemdruk verminderen. Omgekeerd, wanneer de kracht op het druk ontdekkende element vermindert, opent de regelende klep, verhogend de gasstroom en opheffend de systeemdruk. Drukstabilisatie: Door voortdurend de klep aan te passen die openen, handhaaft de Drukregelaar van het videogas een regelmatige druk van gas die door het systeem vloeien. De regelgever zal in realtime zoals nodig aanpassen om ervoor te zorgen dat de gasdruk in het systeem binnen een vooraf bepaalde waaier blijft.

In halfgeleidervervaardiging, doen de gassen al werk en de lasers krijgen al aandacht. Terwijl de lasers transistorpatronen in silicium etsen, ets dat eerst het silicium deponeert en de laser opsplitst om volledige kringen te maken is een reeks gassen. Het is verrassend niet dat deze gassen, die worden gebruikt om microprocessors door een meertrappig proces te ontwikkelen, van hoge zuiverheid zijn. Naast deze beperking, hebben veel van hen andere zorgen en beperkingen. Enkele gassen zijn cryogeen, zijn anderen corrosief, en nog zijn anderen hoogst giftig.   Alles bij elkaar, maken deze beperkingen de distributie tot systemen van het productiegas voor de halfgeleiderindustrie een aanzienlijke uitdaging. De materiële specificaties zijn eisend. Naast materiële specificaties, is een serie van de gasdistributie een complexe elektromechanische serie van stelsels van systemen. De milieu's waarin zij worden geassembleerd zijn complex en overlappend. De definitieve vervaardiging vindt op plaats als deel van het installatieproces plaats. Het orbitale lassen helpt om aan de hoge de distributievereisten van het specificatiegas te voldoen terwijl het maken van vervaardiging in strakke en opwindende milieu's handelbaarder.   Hoe de gassen in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt   Alvorens om de vervaardiging van een systeem van de gasdistributie te proberen te plannen, is het noodzakelijk om minstens de grondbeginselen te begrijpen van halfgeleider productie. Bij zijn kern, gebruiken de halfgeleiders gassen om dichtbijgelegen-elementaire vaste lichamen op een oppervlakte op een hoogst gecontroleerde manier te deponeren. Deze gedeponeerde vaste lichamen worden dan gewijzigd door extra gassen, lasers, chemische etchants, en hitte te introduceren. De stappen in het brede proces zijn:   Deposito: Dit is het proces om het aanvankelijke siliciumwafeltje te creëren. De gassen van de siliciumvoorloper worden gepompt in een vacuümdepositokamer en de wafeltjes van het vorm dun silicium door chemische of fysieke interactie.   Fotolithografie: De fotosectie verwijst naar lasers. In het hogere extreme ultraviolette die lithografie (EUV) spectrum wordt gebruikt om de hoogste specificatiespaanders te maken, wordt een kooldioxidelaser gebruikt om het microprocessorschakelschema in het wafeltje te etsen.   Het etsen: Tijdens het etsproces, wordt het halogeen-koolstof gas gepompt in de kamer om geselecteerde materialen in het siliciumsubstraat te activeren en op te lossen. Dit proces graveert effectief het laserschakelschema op het substraat.   Het smeren: Dit is een extra stap die het geleidingsvermogen van de geëtste oppervlakte verandert om de nauwkeurige voorwaarden te bepalen waarop de halfgeleider leidt.   Het ontharden: In dit proces, worden de reacties tussen wafeltjelagen teweeggebracht door opgeheven druk en temperatuur. Hoofdzakelijk, beëindigt het de resultaten van het vorige proces en leidt tot de gebeëindigde bewerker in het wafeltje.   Kamer en Lijn die schoonmaken: De gassen in de vorige en stappen worden gebruikt die, vooral, zijn vaak hoogst giftig en reactief etsen smeren die. Daarom de proceskamer en de gasleidingen die het behoefte voeden om met het neutraliseren van gassen worden gevuld om schadelijke reacties te verminderen of te elimineren, en dan met inerte gassen worden gevuld om het binnendringen van om het even welke vervuilende gassen het buitenmilieu te verhinderen.   De systemen van de gasdistributie in de halfgeleiderindustrie zijn vaak complex wegens de vele verschillende gassen in kwestie en de strakke controle van gasstroom, temperatuur en druk die moeten na verloop van tijd worden gehandhaafd. Dit wordt verder door de ultrahoge die zuiverheid gecompliceerd voor elk gas in het proces wordt vereist. De gassen in de vorige stap worden gebruikt moeten van de lijnen en de kamers worden uitgespoeld of anders worden geneutraliseerd alvorens de volgende stap van het proces dat kan beginnen. Dit betekent dat er een groot aantal gespecialiseerde lijnen is, omzet tussen gelaste buissystemen en slangen, omzet tussen slangen en buizen en gasregelgevers en sensoren, evenals omzet tussen alle eerder vermelde componenten en kleppen en verzegelende die systemen worden ontworpen om pijpleidingsverontreiniging te verhinderen van de aardgaslevering van uit wordt geruild.   Bovendien cleanroom zullen de buitenkant en de specialiteitgassen met de bulksystemen van de gaslevering op cleanroom milieu's en gespecialiseerde beperkte gebieden worden uitgerust om eender welke gevaren in het geval van toevallige lekkage te verlichten. Het lassen van deze gassystemen in zulk een complexe milieu is geen gemakkelijke taak. Nochtans, zorvuldig, kunnen de aandacht aan detail en het juiste materiaal, deze taak met succes worden verwezenlijkt.   De distributiesystemen van het productiegas in de halfgeleiderindustrie De materialen in de distributiesystemen dat van het halfgeleidergas zijn worden gebruikt hoogst veranderlijk. Zij kunnen dingen zoals PTFE-Gevoerde metaalpijpen en slangen omvatten om zich hoogst tegen corrosieve gassen te verzetten. Het gemeenschappelijkste die materiaal voor algemeen doel het door buizen leiden in de halfgeleiderindustrie is wordt gebruikt 316L-roestvrij staal - een lage variant van het koolstofroestvrije staal. Wanneer het over 316L tegenover 316 komt, is 316L meer bestand tegen intergranular corrosie. Dit is een belangrijke overweging wanneer het behandelen van een waaier van hoogst reactieve en potentieel vluchtige gassen die koolstof kunnen aantasten. Het lassende 316L-roestvrije staal geeft minder koolstofprecipitaten vrij. Het vermindert ook het potentieel voor de erosie van de korrelgrens, die tot het kuiltjes maken in corrosie in lassen en hitte beïnvloede streken kan leiden.   Om de mogelijkheid te verminderen die om die corrosie door buizen te leiden tot productregelcorrosie en verontreiniging leiden, 316L-zijn het roestvrije staal met het zuivere gas van de argonbeveiliging wordt gelast en sporen van de wolfram de gas beschermde las de norm in de halfgeleiderindustrie. Het enige lassenprocédé dat de controle verstrekt moest een hoge zuiverheidsmilieu handhaven in proces het door buizen leiden. Het geautomatiseerde orbitale lassen verstrekt slechts de herhaalbare procesbeheersing nodig om de las in de vervaardiging van de distributiesystemen van het halfgeleidergas te voltooien. Het feit dat de ingesloten orbitale lashoofden de overvolle en moeilijke ruimten bij complexe kruisingen tussen procesgebieden kunnen aanpassen is een belangrijk voordeel van het proces. De Technologieco., Ltd van Shenzhenwofei, met meer dan 10 jaar van ervaring in de levering van de industriële en specialiteitgassen, materialen, systemen van de gaslevering en gastechniek voor de halfgeleider, leiden, de BORREL, en TFT LCD-markten, kunnen wij u van de materialen voorzien noodzakelijk om uw producten aan het front van de industrie te brengen. Wij kunnen niet alleen een brede waaier van kleppen en montage voor gassen van de halfgeleider de elektronische specialiteit, maar ook ontwerpgas het door buizen leiden en materiaalinstallatie voor onze klanten verstrekken.

de pneumatische diafragmaklep is een type van klep dat samengeperste lucht gebruikt om een flexibel diafragma aan te drijven om de stroom van vloeistoffen of gassen te controleren. De klep bestaat uit een lichaam, een diafragma, en pneumatische actuator die de beweging van het diafragma controleert. Het het werk principe van pneumatische diafragmaklep: (1) Luchtlevering: De samengeperste lucht wordt geleverd aan pneumatische actuator van de klep, die met het diafragma wordt verbonden. (2) Diafragmabeweging: Pneumatische actuator beweegt het diafragma naar boven of naar onder, afhankelijk van de richting van de luchtstroom. Deze beweging opent of sluit de klep die, die of de stroom van vloeistof of gas door de klep toestaan beperken. (3) Controlesignaal: Pneumatische actuator wordt gecontroleerd door een signaal van een extern die controlemechanisme of controlesysteem, dat de hoeveelheid lucht regelt aan actuator wordt geleverd en zo de positie van het diafragma controleert. (4) Datatransportbesturing: Door de positie van het diafragma aan te passen, kan de pneumatische diafragmaklep de stroom controleren van vloeistof of gas door de klep. Wanneer het diafragma in de open positie is, vloeien de vloeistof of het gas door de klep, en wanneer het diafragma in de gesloten positie is, is de stroom beperkt of opgehouden.   De pneumatische diafragmakleppen worden algemeen gebruikt in een verscheidenheid van toepassingen, met inbegrip van chemische verwerking, geneesmiddelen, voedsel en drank, en waterbehandeling, waar de betrouwbare en efficiënte datatransportbesturing kritiek is. Zij zijn gekend voor hun betrouwbaarheid, duurzaamheid, en gemak van onderhoud.

De druk is één van de belangrijke parameters in industriële productie. De correcte meting en de controle van druk zijn een belangrijke verbinding om de goede verrichting van het productieproces te verzekeren en hoogstaande, hoge opbrengst, laag-consumptie en veilige productie te realiseren. Daarom krijgt de opsporing van druk more and more aandacht. 1. wat is de elektrische maat van de contactdruk? De elektrische maat van de contactdruk is één van de het vaakst gecontacteerde drukmaten door de basiskalibermeters wegens zijn verscheidenheid, volledige modellen en brede waaier van toepassingen. Het algemene nauwkeurigheidsniveau is 1.0-4.0, vooral in de meting en de controle van boilers, drukvaten of drukpijpleidingen. Gewoonlijk wordt de drukmaat gebruikt samen met de overeenkomstige relais, schakelaars en andere elektroapparaten om de automatische controle van het gemeten druksysteem en het doel van signaalalarm te realiseren. In de loop van dagelijks gebruik, zullen de drukmaten diverse problemen en defecten toe te schrijven aan trilling, olie, slijtage en corrosie, enz. hebben, die geschikte onderhoud en kaliberbepaling vereisen.   Het werk principe van de elektrische maat van de contactdruk? De elektrische die maat van de contactdruk bestaat uit een de drukmaat van de de lentebuis met een elektrisch contact wordt uitgerust. Naast aanwijzing ter plaatse, wordt het ook aan signaaldruk gebruikt die grenzen overschrijden. Het principe van drukmeting is gebaseerd op het metende systeem in de de lentebuis onder de druk van het gemeten middel om het eind van de de lentebuis te dwingen om de overeenkomstige elastische misvorming (verplaatsing) te veroorzaken, door het staande vistuig op de wijzer de gemeten waarde van de aanwijzing in de wijzerplaat zal zijn; tegelijkertijd, drijf het contact om de overeenkomstige gesloten actie (of om te openen) te veroorzaken, zodat het systeem van de voltagecontrole in de kring of weg, om het doel van het automatische controlealarm en de instructies ter plaatse te bereiken.   3. Kaliberbepaling van de elektrische maat van de contactdruk? De elektrische die maat van de contactdruk is eigenlijk een kringsschakelaar door de drukmaat in werking wordt gesteld. Het is enkel een gewone die de drukmaat van de de lentebuis, met elektrisch contact signalerend apparaat retroactief aan wordt gepast. De kaliberbepaling van het onder druk gezette deel is hetzelfde als dat van de gewone drukmaat. Het verschil met de andere drukmaat is de reactie na verbinding. Wanneer het verifiëren, bekijken eerste de nauwkeurigheid van zijn druk, en bekijken dan de gevoeligheid van zijn verbindingsreactie. Daarom is de controle verdeeld in twee stappen: (1) onder druk gezet deel van de de kaliberbepalingswaarde voor algemeen gebruik van de drukmaat; (2) het elektrodeel, nadat de kaliberbepaling van de demonstratiewaarde wordt gekwalificeerd, zou het elektrische contact signalerende apparaat onder druk moeten worden gekalibreerd en zijn verbindingsprestaties zouden met een multimeter moeten worden gecontroleerd.   4. Kaliberbepaling van het onder druk gezette deel van de elektrische maat van de contactdruk? De vergelijkingsmethode is een gemeenschappelijke methode om de drukmaat te kalibreren. De standaarddrukmaat en de gemeten drukmaat zijn geïnstalleerd op hetzelfde niveau van de maat van de zuigerdruk of de drukkalibermeter. Nadat de zuiger met werkende vloeistof (transformatorolie) en de interne lucht wordt gelost wordt gevuld, is de naaldklep op de oliekop gesloten om een gesloten systeem te vormen; de druk van de uitgedreven werkende vloeistof kan worden veranderd door het handwiel op de zuiger van de zuigertype drukmaat of de kalibermeter te roteren. Hydraulische aandrijving van de werkende vloeistof, zodat hetzelfde niveau van standaarddrukmaat en de drukmaat om gemeten druksynchronisatie en gelijke veranderingen te zijn; de standaarddrukmaat en de drukmaat om de vermelde waarde te meten te vergelijken.  

Het productieproces van elektronische specialiteitgassen omvat verscheidene processen zoals zich synthese, reiniging, het vullen, analyse en het testen, het mengen en het aanpassen. om aan de stroomafwaartse halfgeleider productieeisen ten aanzien van zuiverheid en onzuiverheidsinhoud te voldoen, is het reinigingsproces zeer belangrijk. Afhankelijk van de samenstelling van het stroomopwaartse synthesegas of ruw gas, worden de lage temperatuurdistillatie of de meertrappige reiniging uitgevoerd.   Hoge netheidsvereisten Het voorbereidingsproces van elektronische speciale gassen kan in twee belangrijke blokken van stroomopwaartse synthesevoorbereiding en reiniging worden verdeeld, die tot het chemische productieproces behoort. De grootte van de productiepijpleiding is groot, en er is geen speciaal vereiste van het netheidsniveau. Na stroomafwaartse reiniging, wordt het product gevuld met gas en voor voorbereiding gemengd. De productiepijpleiding is klein en heeft de vereisten van het netheidsniveau. Het moet de standaardspecificatie van halfgeleider productieproces ontmoeten. Hoge het verzegelen vereisten wegens hun chemische activiteit, plaatsen de elektronische specialiteitgassen ook hoge eisen op de materialen en het verzegelen van het systeem van het productieproces. Enkel als de vereisten van halfgeleider productie die, verhindert het interfacelekkage door de introductie van onzuiverheden of corrosie van speciale gassen wordt veroorzaakt. Het systeem kan ook worden gebruikt die de introductie van onzuiverheden of de lekkage van interface te verhinderen door de corrosie van speciale gassen wordt veroorzaakt.   Hoog - de vereisten van de kwaliteitsstabiliteit De kwaliteit van elektronische specialiteitgassen omvat een aantal indicatoren zoals zuiverheid en onzuiverheidsdeeltjesinhoud. Om het even welke verandering in de indicatoren zal de resultaten van het stroomafwaartse halfgeleider productieproces beïnvloeden. Daarom om de consistentie van de elektronische speciale indicatoren van het gasproduct te verzekeren, is het systeem van het voorbereidingsproces om de stabiliteit van de indicatoren te controleren ook zeer belangrijk.     wegens de chemische activiteit en kwaliteitseisen van EGP, het productiesysteem ten aanzien van EGP moet de voorbereiding, vooral het stroomafwaartse reinigingssysteem, aan de vereisten van hoge zuiverheidsmaterialen, het hoge verzegelen, hoge netheid en hoogte voldoen - de kwaliteitsconsistentie, en de bouw van gebouwde componenten moeten aan de normen van de halfgeleider verwerkende industrie voldoen. Wat wij algemeen doorverwijzen naar aangezien de „hoge zuiverheid“ theoretisch de definitie van de zuiverheid van een substantie, zoals hoge zuiverheidsgassen, hoge zuiverheidschemische producten, enz.-Processystemen of de componenten is van het processysteem die worden toegepast op high-purity substanties ook worden verwezen naar high-purity, zoals high-purity systemen en high-purity kleppen. De elektronische de voorbereidingssystemen van het specialiteitgas vereisen de montage van de hoge zuiverheidstoepassing, kleppen, en andere vloeibare componenten, d.w.z., montage en kleppen die met hoge zuiverheidsmaterialen worden verwerkt en productieprocessen schoonmaken, en zijn gestructureerd voor het gemakkelijke zuiveren en het schoonmaken. Met hoge het verzegelen prestaties. Deze vloeibare componenten worden ontworpen om de weg van de processtroom van de toepassing te ontmoeten, gebruikend de techniek en bouwbehoeften van de halfgeleiderindustrie.   De Verbindingen van hoge Zuiverheidsleidingen Van het de pakkingsgezicht van het videometaal de de verbindingsverbindingen en de automatische verbindingen van de gidsstuiklas worden wijd gebruikt in het eisen van vloeibare het procesvereisten van de systeemzuiverheid toe te schrijven aan de capaciteit om zowel vlotte overgang van de stroomweg die bij de verbinding, geen stagnatiestreek, als hoogte te ontmoeten performance.VCR-verbindingen verzegelen vormen een smalle oppervlakteverbinding door een vrij zachte metaalpakking uit te drijven. De herhaalbare en verenigbare verbinding en het verzegelen prestaties worden verzekerd telkens als de misvormde pakking wordt verwijderd en vervangen.   De buizen zijn gelast gebruikend een automatisch orbitaal lassensysteem. De buis wordt uit beschermd door hoge zuiverheidsgas binnen en. De wolframelektrode roteert langs de baan voor hoogte - kwaliteitslassen. Het volledig geautomatiseerde orbitale lassen de pijp smelt zonder andere materialen te introduceren, bereikend een hoogte - de kwaliteitslas door thin-walled pijp herhaaldelijk te controleren is moeilijk om met handlassen te bereiken.   Van het de Pakkingsgezicht van het videometaal de Verbindingsverbinding   De automatische Orbitale Verbinding van het Uiteindelassen van Pijpen   Hoge Zuiverheidskleppen De chemische activiteit van brandbare, explosieve, corrosieve, en giftige elektronische specialiteitgassen plaatst hoge eisen op het verzegelen van de klep. Om de het verzegelen betrouwbaarheid, het vereiste van packingless kleppen te verbeteren om externe lekkage te verhinderen, d.w.z., het schakelen verrichting van de klepstam en het kleplichaam tussen de verbinding die metaalblaasbalgen of metaaldiafragma gebruiken om lekkage te elimineren toe te schrijven aan schuring en verpakkingsverbindingsmisvorming. De blaasbalg-verzegelde en diafragma-verzegelde kleppen worden algemeen gebruikt in processystemen voor high-purity toepassingen wegens de grotere betrouwbaarheid van de verbindingen en de gemakkelijkere het schoonmaken en zuiveringsvervanging van klepinternals.   De blaasbalg-verzegelde kleppen zijn een packingless naaldklepbouw die voor langzame het openen en stroomregelgeving toestaat. Gebruikt voor elektronisch specialiteitgas die met de vereisten van de veiligheidsstroom of op voorloper bronflessen met hoge veiligheidsvoorschriften vullen. De het uiteindeverbindingen van de alle-metaalstam staan toe voor uiterst - lage werkende temperaturen en voor cryogene vloeibaarmaking van elektronische specialiteitgassen in afgewerkt producttanks na cryogene distillatie voor het door buizen leiden gebruikt.   De de Verbindingsklep van het Springlessdiafragma is onverwacht-open klep van a1/4 de“ voor gebruik als automatisch gecontroleerde omschakelingsklep in levering het door buizen leiden. Zij worden algemeen gebruikt in ultra-hoog-druk, high-purity toepassingen toe te schrijven aan hun eenvoudige interne stroomweg, klein intern volume, en gemak om te zuiveren en vervanging.   De diafragma-verzegelde kleppen die via het stamuiteinde sluiten kunnen langzaam openen en bij hogere werkende druk worden gebruikt dan niet-opgesprongen diafragma-verzegelde kleppen. Zij worden wijd gebruikt op van de het gas het vullen of voorloper van de hoge druk elektronische specialiteit bronflessen.   De secundaire klep van verbindingsblaasbalgen kan niet alleen in ultra-low systemen van het temperatuurproces bij -200 graden worden gebruikt, maar ook verhindert lekkage van gevaarlijke media in de atmosfeer. Gewoonlijk gebruikt voor zeer gevaarlijke elektronische speciale gassen, zoals silaan vullend systeem.   De Technologieco., Ltd van Shenzhenwofei, met meer dan 10 jaar van ervaring in de levering van de industriële en specialiteitgassen, materialen, systemen van de gaslevering en gastechniek voor de halfgeleider, leiden, BORREL, TFT LCD-markten, kunnen wij u van de noodzakelijke materialen voorzien om uw producten aan het front van de industrie te duwen. Wij kunnen niet alleen een brede waaier van kleppen en montage voor gassen van de halfgeleider de elektronische specialiteit leveren, maar wij kunnen gas het door buizen leiden en materiaalinstallatie voor onze klanten ook ontwerpen. Als u om het even welke behoeften op dit gebied hebt, gelieve ons bij 0927023443 te contacteren.  

De specialiteitgassen worden vaak beschouwd als het bloed van de elektronische industrie en het hart van halfgeleider productie. De globale markt van specialiteitgassen wordt gebruikt in vier zeer belangrijke toepassingen in het halfgeleiderspaander productieproces en is direct verwant met de beschikbaarheid en het potentieel van de technologieën die wij vandaag hebben gebruikt. Nochtans, is het gebruik van gas onvermijdelijk de behoefte aan verwant toebehoren en materiaal voor verdere verwerking goed om worden gebruikt; daarom de Technologie van Shenzhen Wofly aangezien een aardgasleidingsportier, die duidelijk het belangrijkste slagveld van Wofly-Technologie is, vegend de binnenlandse talloze laboratoriumprojecten zeer rijp, als Huawei-Fortuin 500 bedrijven, is geweest maar ook met het halfgeleiderproject samengewerkt moet de diensten of producten verlenen. Voor de halfgeleider moet het project de diensten verlenen of de Technologie van productenwofly is ook de grootste hulp het kan verstrekken, Wofly-speciale het gascertificaten van de Technologie, evenals onderzoek en ontwikkeling van GC speciale van het gasmateriaal (speciaal gaskabinet), (speciaal gasrek) gr., (klepdoos) VMB, (klepplaat) VMP; gas die en apparaat mengen het aanpassen heeft een volledig geautomatiseerd mengen-gas evenredig kabinet, horizontaal mengen-gas evenredig kabinet, de twee elementen van het gas die en apparaat, multi-ver gas mengen aanpassen die en apparaat mengen aanpassen, etc. Al deze kunnen de grootste hulp voor de halfgeleiderindustrie verstrekken. De Wolflytechnologie wordt om producten te verkopen aangepast met het gas, kunnen zij met een volledige reeks van het materiaal van de gaslevering worden uitgerust, toch is de techniek hun voordeel, in dit dan vele bedrijven om veel beter te zijn, begrijpt men dat een groot deel van het bedrijf producten, Wolfly-technologie zowel producten, als techniek moet slechts kopen en in deze weg 12 jaar, kan worden gezegd om een rijkdom aan ervaring te zijn heeft gelopen. Hoewel, nu de Wolfly-technologie niet als één van de bedrijven wordt geteld, maar in het land of een kleine reputatie, geloof ik dat op een dag in de toekomst in deze industrie een klein internationaal succes zal zijn, toch kan de kwaliteit van het product alles bewijzen.

In halfgeleidervervaardiging, doen de gassen al werk en de lasers krijgen al aandacht. Terwijl de lasers transistorpatronen in silicium etsen, ets dat eerst het silicium deponeert en de laser opsplitst om volledige kringen te maken is een reeks gassen. Het is verrassend niet dat deze gassen, die worden gebruikt om microprocessors door een meertrappig proces te ontwikkelen, van hoge zuiverheid zijn. Naast deze beperking, hebben veel van hen andere zorgen en beperkingen. Enkele gassen zijn cryogeen, zijn anderen corrosief, en nog zijn anderen hoogst giftig. Alles bij elkaar, maken deze beperkingen de distributie tot systemen van het productiegas voor de halfgeleiderindustrie een aanzienlijke uitdaging. De materiële specificaties zijn eisend. Naast materiële specificaties, is een serie van de gasdistributie een complexe elektromechanische serie van stelsels van systemen. De milieu's waarin zij worden geassembleerd zijn complex en overlappend. De definitieve vervaardiging vindt op plaats als deel van het installatieproces plaats. De orbitale het solderen hulp ontmoet de hoge specificaties van de vereisten van de gasdistributie terwijl het maken van vast productie in, uitdagend handelbaardere milieu's.   Hoe de halfgeleiderindustrie gassen gebruikt Alvorens om de vervaardiging van een systeem van de gasdistributie te proberen te plannen, is het noodzakelijk om minstens de grondbeginselen te begrijpen van halfgeleider productie. Bij zijn kern, gebruiken de halfgeleiders gassen om dichtbijgelegen-elementaire vaste lichamen op een oppervlakte op een hoogst gecontroleerde manier te deponeren. Deze gedeponeerde vaste lichamen worden dan gewijzigd door extra gassen, lasers, chemische etchants, en hitte te introduceren. De stappen in het brede proces zijn: Deposito: Dit is het proces om het aanvankelijke siliciumwafeltje te creëren. De gassen van de siliciumvoorloper worden gepompt in een vacuümdepositokamer en de wafeltjes van het vorm dun silicium door chemische of fysieke interactie. Fotolithografie: De fotosectie verwijst naar lasers. In het hogere extreme ultraviolette die lithografie (EUV) spectrum wordt gebruikt om de hoogste specificatiespaanders te maken, wordt een kooldioxidelaser gebruikt om het microprocessorschakelschema in het wafeltje te etsen. Het etsen: Tijdens het etsproces, wordt het halogeen-koolstof gas gepompt in de kamer om geselecteerde materialen in het siliciumsubstraat te activeren en op te lossen. Dit proces graveert effectief het laserschakelschema op het substraat. Het smeren: Dit is een extra stap die het geleidingsvermogen van de geëtste oppervlakte verandert om de nauwkeurige voorwaarden te bepalen waarop de halfgeleider leidt. Het ontharden: In dit proces, worden de reacties tussen wafeltjelagen teweeggebracht door opgeheven druk en temperatuur. Hoofdzakelijk, beëindigt het de resultaten van het vorige proces en leidt tot de gebeëindigde bewerker in het wafeltje. Kamer en Lijn die schoonmaken: De gassen in de vorige en stappen worden gebruikt die, vooral, zijn vaak hoogst giftig en reactief etsen smeren die. Daarom de proceskamer en de gasleidingen die het behoefte voeden om met het neutraliseren van gassen worden gevuld om schadelijke reacties te verminderen of te elimineren, en dan met inerte gassen worden gevuld om het binnendringen van om het even welke vervuilende gassen het buitenmilieu te verhinderen. De systemen van de gasdistributie in de halfgeleiderindustrie zijn vaak complex wegens de vele verschillende gassen in kwestie en de strakke controle van gasstroom, temperatuur en druk die moeten na verloop van tijd worden gehandhaafd. Dit wordt verder door de ultrahoge die zuiverheid gecompliceerd voor elk gas in het proces wordt vereist. De gassen in de vorige stap worden gebruikt moeten van de lijnen en de kamers worden uitgespoeld of anders worden geneutraliseerd alvorens de volgende stap van het proces dat kan beginnen. Dit betekent dat er een groot aantal gespecialiseerde lijnen is, omzet tussen het gelaste buissysteem en de slangen, omzet tussen de slangen en de buizen en de de gasregelgevers en sensoren, en omzet tussen alle eerder vermelde componenten en kleppen en verzegelende die de systemen worden ontworpen om pijpleidingsverontreiniging te verhinderen van de aardgaslevering van uit wordt geruild. Bovendien cleanroom zullen de buitenkanten en de specialiteitgassen met de bulksystemen van de gaslevering op cleanroom milieu's en gespecialiseerde beperkte gebieden worden uitgerust om eender welke gevaren in het geval van toevallige lekkage te verlichten. Het lassen van deze gassystemen in zulk een complexe milieu is geen gemakkelijke taak. Nochtans, zorvuldig, kunnen de aandacht aan detail en het juiste materiaal, deze taak met succes worden verwezenlijkt.   De distributiesystemen van het productiegas in de halfgeleiderindustrie De materialen in de distributiesystemen dat van het halfgeleidergas zijn worden gebruikt hoogst veranderlijk. Zij kunnen dingen zoals PTFE-Gevoerde metaalpijpen en slangen omvatten om zich hoogst tegen corrosieve gassen te verzetten. Het gemeenschappelijkste die materiaal voor algemeen doel het door buizen leiden in de halfgeleiderindustrie is wordt gebruikt 316L-roestvrij staal - een lage variant van het koolstofroestvrije staal. Wanneer het over 316L tegenover 316 komt, is 316L meer bestand tegen intergranular corrosie. Dit is een belangrijke overweging wanneer het behandelen van een waaier van hoogst reactieve en potentieel vluchtige gassen die koolstof kunnen aantasten. Het lassende 316L-roestvrije staal geeft minder koolstofprecipitaten vrij. Het vermindert ook het potentieel voor de erosie van de korrelgrens, die tot het kuiltjes maken in corrosie in lassen en hitte beïnvloede streken kan leiden. Om de mogelijkheid te verminderen die om die corrosie door buizen te leiden tot productregelcorrosie en verontreiniging leiden, 316L-zijn het roestvrije staal met het zuivere gas van de argonbeveiliging wordt gelast en sporen van de wolfram de gas beschermde las de norm in de halfgeleiderindustrie. Het enige lassenprocédé dat de controle verstrekt moest een hoge zuiverheidsmilieu handhaven in proces het door buizen leiden. Het geautomatiseerde orbitale lassen is slechts beschikbaar in de distributie van het halfgeleidergas

wegens zijn inerte aard, kan de gasachtige stikstof in een verscheidenheid van het zuiveren, het behandelen en het spoelen verrichtingen worden gebruikt. Afhankelijk van het type van proces in kwestie, worden de verschillende niveaus van stikstofzuiverheid vereist om aan unieke productiebehoeften te voldoen.   Wat is Stikstofzuiverheid?   De stikstofzuiverheid is het percentage van stikstof huidig in een steekproef die uit zijn stroom in vergelijking met de aanwezige onzuiverheden wordt genomen. De stikstof kan als hoge of lage zuiverheid worden gerangschikt die op de verhouding van zuiver gas aan verontreinigende stoffen zoals zuurstof, waterdamp, koolmonoxide en kooldioxide wordt gebaseerd.   Deze classificatie die op stikstofconcentratie wordt gebaseerd speelt een belangrijke rol in het bepalen van de geschiktheid van stikstof voor om het even welk industrieel proces.   Hoge Zuiverheid versus Lage Zuiverheidsstikstof   De zuiverheid van een stikstofsteekproef wordt bepaald door het percentage/concentratie van zuivere stikstof daarin. Voor een gas dat als hoge zuiverheid moet worden gecategoriseerd, moet het stikstof bevatten minstens 99,998%, terwijl de lagere zuiverheidsstikstof typisch een hoger percentage onzuiverheden bevat. Hoge Zuiverheidsstikstof   De gasachtige stikstof met een concentratie boven 99,998% wordt beschouwd een als hoge zuiverheidsfractie. De hoge zuiverheidsstikstof kan op verschillende manieren door verschillende fabrikanten worden gesorteerd, maar zij worden meestal beschouwd „als nul rang“ fracties. De nul-rang high-purity stikstof is gecategoriseerd aangezien zulke omdat zij koolwaterstofonzuiverheden van minder dan 0,5 delen per miljoen bevatten.   Andere zeer belangrijke kenmerken van hoge zuiverheidsstikstof zijn:   Zuurstofconcentratie ≤ 0,5 p.p.m.   Koolmonoxide/kooldioxide niet meer dan 1,0 p.p.m.   Vochtigheid niet groter dan 3 p.p.m.   Lage zuiverheidsstikstof   De stikstof met een zuiverheid van 90% aan lichtjes minder dan 99,9% wordt beschouwd als lage zuiverheid.   De Classificatie van de stikstofzuiverheid   De classificatie van zuivere stikstof wordt verwezenlijkt door een sorterend systeem gebruikend aantallen binnen elke laagste zuiverheidsrang. Het eerste aantal van elke rang verwijst naar het aantal „nines“ die binnen het verschijnen, terwijl het tweede aantal het aantal na de laatste negen cijfers vertegenwoordigt.   De zuiverheidsrangen van stikstof zijn gecategoriseerd als N2.0, N3.0, N4.0, N5.0, N6.0, en N7.0.   Wat is ultrahoge zuiverheidsstikstof?   De ultrahoog-zuiverheidsstikstof is stikstof met een concentratie van 99,999% en te verwaarlozen onzuiverheden. De stikstofspecificaties zijn stringent en de variaties maken de classificatie ongeldig.   Het gas moet niet meer dan twee delen per miljoen door volume (ppmv) van zuurstof, 0,5 delen per miljoen door volume van totale koolwaterstoffen, en één deel per miljoen bevatten door volume van vochtigheid). De stikstof wordt algemeen gebruikt voor wetenschappelijke toepassingen.   Wat is zuurstofvrije stikstof?   Wordt de zuurstof vrije stikstof (OFN) gedefinieerd als gasachtige stikstofhoudend neen meer dan 0,5 delen per miljoen (p.p.m.) van zuurstof. OFN de gassen worden typisch gehandhaafd bij zuiverheid 99,998%. Deze rang van stikstof wordt gebruikt in wetenschappelijke onderzoek en kaliberbepalingsprocessen waar de zuurstofonzuiverheden resultaten kunnen veranderen of onjuiste resultaten veroorzaken. De Niveaus van de stikstofzuiverheid door de Industrie/Toepassing   Zoals hierboven vermeld die, zeer varieert de concentratie van stikstof voor verschillende industriële processen wordt vereist. De belangrijkste overweging in het selecteren van een stikstofrang is het effect van onzuiverheden op de gekozen toepassing. De gevoeligheid voor vochtigheid, de zuurstof en andere verontreinigende stoffen zijn zeer belangrijke te overwegen factoren.   De Stikstof van de voedselrang/de Stikstof van de Drankrang   De stikstof wordt algemeen gebruikt in verschillende stappen van voedsel/drankproductie, verpakking en opslag. De stikstof in voedsel verpakking en verwerking wordt gebruikt om de houdbaarheid van verwerkte voedsel/dranken te handhaven door het elimineren van voedseloxidatiemiddelen, aroma te bewaren en ranzigheid te verhinderen. De zuiverheid die voor de stikstof van de voedselrang is wordt vereist typisch in de waaier van 98-99.5%.   Farmaceutische Rangstikstof   De farmaceutische productieprocessen vereisen hoge zuiverheid om verontreiniging en wijziging van het eindproduct te verhinderen. Vele geneesmiddelen vereisen hoogwaardige stikstof met zuiverheid tussen 97-99.99%. Dit wordt hoog aan ultrahoge zuiverheidsstikstof gebruikt om stikstoftanks, containers en ander drug productiemateriaal te behandelen.   De hoge zuiverheidsstikstof wordt ook gebruikt in farmaceutische verpakking helpen versheid handhaven en verslechtering van actieve ingrediënten verhinderen.   De gasachtige stikstof met zuiverheid 95-99% wordt gebruikt in de olie en gasindustrie om het risico van brand en explosie tijdens het proces te verminderen. Tanks van de neutraliserings minimaliseren de chemische opslag en de zuiverende pijpleidingen met gasachtige stikstofhulp het risico van plotselinge verbranding van hun inhoud.   De diensten van het pijpleidingsonderhoud gebruiken vaak onder druk gezette stikstof voor pijpleiding het schoonmaken en pijpleiding het opleggen processen.   De industriële Zuiverheid van de Stikstofrang   Sommige industriële toepassingen en hun vereisten van de stikstofrang zijn hieronder geschetst.   Elektronika en Halfgeleider de Stikstof van de Productierang   De typische stikstofgehaltevereisten in elektronika en halfgeleider productie zijn gewoonlijk minstens 99.99-99.999%. Sommige processen zoals delen het schoonmaken en de zelfklevende concentraties van het dekkingsgebruik lager van stikstof (95-99.5%).   Plastieken die Rangstikstof vervaardigen   De eisen van de stikstofrang ten aanzien van plastiekensynthese zijn 95-98% voor injectie het vormen, 99,5% voor hetbijgewoonde injectie vormen, en 98-99.5% voor opgeblazen filmuitdrijving.   De rangstikstof van de metaalverwerking   Het stikstofgehalte van de rang van de metaalverwerking varieert zeer, van 95-99% voor thermische behandeling tot 99-99.999% voor laser scherp proces.   De rangstikstof van de machtsgeneratie   De stikstof in waaier 95-99.6% wordt vereist voor de processen van de machtsgeneratie zoals de aftapping van de luchtverbinding, boilervoering, de aftapping van de aardgaspijpleiding en water het zacht worden bekleding.

De ultrahoge zuiverheidsgassen zijn essentieel door de keten van de halfgeleiderlevering. In feite, voor een typische fab, zijn high-purity gassen de grootste materiële uitgave na silicium zelf. In het spoor van het globale spaandertekort, breidt de industrie zich sneller uit dan ooit - en de vraag naar hoge zuiverheidsgassen stijgt. De het meest meestal gebruikte bulkgassen in halfgeleider productie zijn stikstof, helium, waterstof en argon.   Stikstof   De stikstof maakt omhoog 78% van onze atmosfeer en is uiterst overvloedig. Het gebeurt ook chemisch inert en niet geleidend te zijn. Dientengevolge, heeft de stikstof zijn weg in een aantal industrieën als rendabel inert gas gevonden. De halfgeleiderindustrie is een belangrijke consument van stikstof. Een moderne halfgeleider productieinstallatie zou moeten tot 50.000 kubieke meters van stikstof per uur gebruiken. Bij halfgeleider productie, doet de stikstof dienst als algemeen doel neutralisering en het zuiveren gas, die gevoelige siliciumwafeltjes beschermen tegen reactieve zuurstof en vochtigheid in de lucht.   Helium   Het helium is een inert gas. Dit betekent dat, als stikstof, helium chemisch inert is - maar het heeft ook het toegevoegde voordeel van hoog warmtegeleidingsvermogen. Dit is bijzonder nuttig in halfgeleider productie, toestaand het om hitte vanaf high-energy processen efficiënt te leiden en hulp bescherm hen tegen thermische schade en ongewenste chemische reacties.   Waterstof   De waterstof wordt gebruikt uitgebreid door het elektronika productieproces, en de halfgeleiderproductie is geen uitzondering. In het bijzonder, wordt de waterstof gebruikt voor:   Het ontharden: De siliciumwafeltjes worden typisch verwarmd aan hoge temperaturen en aan reparatie (onthard) de kristalstructuur langzaam gekoeld. De waterstof wordt gebruikt om hitte gelijk over te brengen naar het wafeltje en in het herbouwen van de kristalstructuur bij te wonen.   Epitaxy: De ultrahoge zuiverheidswaterstof wordt gebruikt als verminderende agent in het epitaxial deposito van halfgeleidermaterialen zoals silicium en germanium.   Deposito: De waterstof kan in siliciumfilms worden gesmeerd om hun atoomstructuur wanordelijker te maken, helpend om weerstandsvermogen te verhogen.   Plasma die schoonmaken: Het waterstofplasma is bijzonder efficiënt in het verwijderen van tinverontreiniging van lichtbronnen die in UVlithografie worden gebruikt.   Argon   Het argon is een ander edel gas, zodat stelt het dezelfde lage reactiviteit tentoon zoals stikstof en helium. Nochtans, maakt de lage de ionisatieenergie van het argon het in halfgeleidertoepassingen nuttig. Wegens zijn relatief gemak van ionisatie, wordt het argon algemeen gebruikt aangezien het primaire plasmagas voor etst en deposito in halfgeleider productie reacties. Naast dit, wordt het argon ook gebruikt in excimer lasers voor UVlithografie.   Waarom de zuiverheid van belang is   Typisch, is de vooruitgang in halfgeleidertechnologie bereikt door grootte het schrapen, en de nieuwe generatie van halfgeleidertechnologie wordt gekenmerkt door kleinere eigenschapgrootte. Dit brengt veelvoudige voordelen op: meer transistors in een bepaald volume, betere stromen, een lagere machtsconsumptie en een snellere omschakeling.   Nochtans, aangezien de kritieke grootte vermindert, worden de halfgeleiderapparaten meer en meer verfijnd. In een wereld waar de positie van individuele atomen van belang is, zijn de fouttolerantiedrempels zeer strak. Dientengevolge, vereisen de moderne halfgeleiderprocessen procesgassen met de hoogste mogelijke zuiverheid. WOFLY is een high-tech onderneming die zich in het systeemtechniek van de gastoepassing specialiseert: het elektronische speciale gassysteem, het de kringssysteem van het laboratoriumgas, het industriële gecentraliseerde systeem van de gaslevering, het bulkgas (vloeistof) systeem, het hoge zuiverheidsgas en het speciale secundaire de leidingensysteem van het procesgas, chemisch leveringssysteem, zuiver watersysteem om een volledige reeks techniek en de technische diensten en assistentproducten te verlenen van het technische raadplegen, algemene planning die, systeemontwerp, het materiaal selecteert, prefabriceerden componenten, de installatie en de bouw van de projectplaats, het algemene systeem testen, onderhoud en andere ondersteunende producten op een geïntegreerde manier.

Georganiseerd door Shenzhen Overseas Chinees het Onderzoekinstituut van de Ondernemersdenkgroep, Maleisië Chiu Chow Chamber van Handel en de Industrie en de Groep van Guangdong Qidian, zal de „Tentoonstelling Overzee Chinese van de Ondernemers Eerlijke 2023 (Kuala Lumpur) Slimme Technologie“ in het World Trade Center in Kuala Lumpur, Maleisië vanaf 16 tot 18 plaatshebben Juni, met meer dan 2.000 nieuwe Chinese technologieproducten op vertoning. 6.24 - 6,26 Slimme Technologie Expo in Bangkok, waar de Chinese exposanten de markt en de kansen voor slimme technologieproducten met Thaise zakenlieden zullen bespreken. Tijdens de tentoonstelling, zullen honderden Chinese slimme nieuwe energieproducten en de technologieën worden voorgesteld. Gedreven door het beleid en de markt in China en Maleisië, versnelt de introductie op de markt van nieuwe energieopslag en heeft reusachtige commerciële ontwikkelingsruimte. Deze tentoonstelling zal scherp-randtendensen en productinformatie van de nieuwe industrie van de energieopslag verzamelen en helpt de industriepartners om geschikte stroomopwaartse en stroomafwaartse leveranciers te vinden. Voor traditionele fabrieken en verwante industriële gebieden in dringende behoefte van technologische transformatie en bevordering van kopers, is deze tentoonstelling volledig van aantrekkelijkheden, vele veiligheid en het automatiseringsmateriaal, het elektronische systeem van de gasautomatisering, de geautomatiseerde machines en energy-saving de materiaalleveranciers zullen bij de tentoonstelling verschijnen, die allerlei automatisering, precisie en intelligente industriële oplossingen tonen. Als professionele het systeemintegrator van de gastoepassing met een goede reputatie in China, behandelen zijn zaken: het ultrahoge systeem van het zuiverheids elektronische speciale gas, het systeem die van het laboratoriumgas, bulkgas (vloeistof) systeem, het industriële gecentraliseerde systeem van de gaslevering, speciaal secundair de leidingensysteem van het procesgas, chemisch leveringssysteem, zuiver watersysteem, technisch overleg, algemene planning, systeemontwerp verstrekken, selecteerde materiaal, geprefabriceerde componenten, de bouw van de projectplaats de installatie en, het algemene systeem testen, onderhoud en andere volledige techniekdiensten en ondersteunende producten, halfgeleider van de projectdekking, de geïntegreerde schakeling, de vlak paneelvertoning, foto-elektrische, de nieuwe energie, nano, de optische vezel, de micro-elektronica, petrochemische, biomedische, de diverse laboratoria, de onderzoekinstituten, het standaard testen en andere high-tech industrieën om klanten van een hoogtepunt te voorzien reeks high-purity media Oplossingen van het leveringssysteem; geleidelijk aan word de belangrijke algemene het systeemleverancier van de industrie. Deze tentoonstelling, de belangrijkste tentoongestelde voorwerpen heeft binnenlandse onafhankelijke onderzoek en ontwikkeling en productie van ultrahoge het diafragmakleppen van de zuiverheidsba/ep rang, regelgevers in de Maleise markt en Zuidoostaziatische markt bijna 10 jaar van verkooptest, diep klantenvertrouwen. Tegelijkertijd is de toepassing van de binnenlandse halfgeleider en photovoltaic ondernemingen erkend en respecteerd door de meerderheid van klanten. Realiseer de eerste keus van de binnenlandse producten van uitstekende kwaliteit om ingevoerde producten te vervangen, maar ook voor de Chinese productie in markten overzee om een nieuw adreskaartje toe te voegen. De klanten ter plaatse gaven zeer hoge aandacht aan het product, de organisator geïnterviewde Wofei-Technologie op plaats, beschreef M. He de markt van het product in Maleisië en de strategische route van Riem en Weg aan de verslaggever, en weidde over de prijs en kwaliteit van onze producten, de uitdrukkend vertrouwen in de markt uit overzee. Het gesprek werd toen gemeld in de relevante media. De producten van de Woflyitechnologie in Zuidoost-Azië en Rusland ontvingen vele klanten als, meer diepgaand begrijpend, zijn de klanten overzee aan te bezoeken en te ruilen China gekomen. Groepsfoto van Russische klanten   Groepsfoto van Maleise klanten in de tak van Hunan Om deze reden, levert Wofei extra inspanningen om elk detail van elke klepmontage van het hoge zuiverheidsgas te doen de veiligheid en de betrouwbaarheid van elk toepassingsscenario verzekeren. Evenals hoge netheidsvideo micro-gelaste montage, secundaire klepmontage, de kleppen van de waterstofenergie, enz. het speciale de gasmateriaal en montage (GC/GR/VMB/VMP/VDB/VDP/gas-het apparaat van de gootsteenomschakeling) worden tentoongesteld in deze tentoonstelling, kunnen de specifieke details de officiële website van Wolfei-Technologie zoeken om meer te leren.